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Cibles de pulvérisation

Les cibles de pulvérisation cathodique sont utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour la fabrication de couches minces. Le portefeuille comprend des cibles en or de haute pureté, des cibles en platine et des cibles en ruthénium, prenant en charge les dispositifs semi-conducteurs, les composants électroniques, les capteurs et les revêtements fonctionnels.
Grâce à des niveaux de pureté contrôlés, à la gestion de la microstructure et à la fabrication de cibles de précision, les matériaux offrent un comportement de pulvérisation stable et des performances de dépôt de film constantes dans la fabrication microélectronique.
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Présentation du produit

Principaux produits

High-Purity Gold Targets

Cibles d'or de haute-pureté

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Platinum Targets

Cibles Platine

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Ruthenium Targets

Cibles de ruthénium

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Caractéristiques

 

Nous fournissons des cibles en métaux précieux dotées de microstructures internes uniformes pour minimiser la génération de particules lors de la pulvérisation, garantissant ainsi une qualité de film continue et stable.

  • Haute pureté
  • Haute densité
  • Structure granulaire uniforme
  • Performances de pulvérisation stables
  • Bonne consistance du film
  • Tailles et collage personnalisables

 

Propriétés des matériaux des cibles de pulvérisation

 

Catégorie

Description

Systèmes matériels

Cibles de dépôt de métaux précieux

Formulaires de produits

Cibles planaires et géométries personnalisées

Systèmes d'alliage

Matériaux en or, platine et ruthénium de haute-pureté

Performance

Processus de pulvérisation stable avec une qualité de film et une adhérence fiables

Processus

Dépôt physique en phase vapeur (PVD)

Contrôle dimensionnel

Formage de précision avec des tolérances contrôlées

Format d'approvisionnement

Tailles standards et personnalisation basée sur l'équipement-

 

 

La pulvérisation cathodique cible les applications de matériaux dans diverses industries

 

  • Semi-conducteurs et circuits intégrés :Utilisé pour le dépôt de couches conductrices, de couches barrières et de couches germes dans la fabrication de plaquettes.
  • Supports de stockage magnétiques :Les cibles de ruthénium (Ru) sont principalement utilisées dans la préparation de sous-couches pour supports d'enregistrement magnétiques et disques durs.
  • Capteurs et MEMS :Les cibles Platine (Pt) et Or (Au) conviennent au dépôt de couches minces-sur les électrodes de capteurs, les MEMS et les composants de test de précision.
  • Dispositifs optoélectroniques :Utilisé pour les revêtements de métallisation et le dépôt d'électrodes dans les composants optiques et les dispositifs électroluminescents-.
  • Composants électroniques de précision :Répond aux exigences de fabrication en matière de conductivité de surface, de protection et de revêtements fonctionnels sur de nombreux composants électroniques.

 

 

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